2023年8月4日至8月10日，根据国家知识产权局公布的信息，胶粘剂和胶粘带行业发明专利约为50个。现摘录部分专利，信息如下：

1、抗冲击保护的光学胶黏剂及其制备方法

摘要：本发明公开了一种抗冲击保护的光学胶黏剂及其制备方法，该光学胶黏剂包括按重量份计的以下原料组分：软单体80~95份、功能类单体5~20份、引发剂0.3~1.2份、溶剂50~120份、紫外吸收剂0.1~2份、异氰酸酯固化剂0.2~2份；其中，所述软单体为玻璃化转变温度低于‑30℃的酯类，所述功能类单体为含有羟基、氨基或羧基类的丙烯酸功能单体。本发明提供的抗冲击保护的光学胶黏剂以长侧链丙烯酸单体为主体，少量长链异氰酸酯固化剂作为交联剂，可以在保留聚丙烯酸酯类胶黏剂各种耐候性优势的同时，获得高透光性、高粘接性能和优异的抗冲击性能，具有广阔的应用前景。

2、一种密封胶及其制备方法和应用

摘要：本发明提供一种密封胶及其制备方法和应用。本发明的密封胶包括如下重量份的组分：100份α,ω‑二羟基聚二甲基硅氧烷、2.5～6.5份增塑剂、80～100份填料、8～15份交联剂、1.5～2份偶联剂、0.1～0.2份催化剂，其中，所述偶联剂为氨基硅烷偶联剂与羟基封端的聚丁二烯的反应物。本发明使用羟基封端的聚丁二烯对氨基硅烷偶联剂进行化学改性，可以显著提高密封胶的粘接性能以及耐湿热性能。

3、一种可用于MLCC切割的UV减粘胶、UV减粘胶带及其制备方法和应用

摘要：本发明涉及一种可用于MLCC切割的UV减黏胶、UV减黏胶带及其制备方法和应用。所述的UV减黏胶的制备方法包括如下步骤：S1、使含丙烯酸酯的单体与醛酮树脂共聚制成含羟基的丙烯酸酯聚合物；S2、使S1中的含羟基的丙烯酸酯聚合物与含异氰酸酯基和碳碳不饱和键的化合物反应，控制反应体系中含异氰酸酯基和碳碳不饱和键的化合物中的—NCO与聚合物中的—OH投料摩尔比为(0.5～0.95)∶1。本发明通过使含丙烯酸酯的单体与醛酮树脂共聚，使得含羟基的丙烯酸酯聚合物具有丙烯酸树脂分子与醛酮树脂形成的互穿网络的分子结构，从而使得UV减黏胶一方面具有良好的硬度和抗蠕变性；另一方面在60～80℃温度下具有良好的黏性；此外，该UV减黏胶易减黏，被黏物上几乎不会有残胶。